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第一一一六章 不同意(1 / 2)

gca当时投入研发euv技术项目的3000万美元经费,可以收购asml40%的股权,不是一笔小数目!

gca当时账上的现金流只剩下300多万美元,公司要花钱的地方多的是。

孙健前世在互联网上看过不少有关asmleuv光刻机的文章,作者纷纷感叹研发和生产euv光刻机之难难于上青天,被称为外星人的科技水准,是迄今为止人类科技领域所能达到的最尖端技术,没有之一。

为了打破封锁,投入巨资,举国之力也没有看见成果。

前世90年代末,干式193n】

英特尔当时打算邀请光刻机行业第一、第二位的nikon和asml加入euvllc,但美国政府担心最前沿的光刻机技术落入外国公司手中,反对nikon和asml加入。

asml为了表现诚意,同意在美国建立一所工厂和一个研发中心,以此满足所有美国本土的产能需求,另外,还保证55%的零部件均从美国供应商处采购,并接受定期审查,做出多项让步后,最后成功加入euvllc,能够享受其基础研究成果,nikon却没有机会加入,失去了同asml竞争的机会。

几年之后,终于论证了euv的可行性,于是euvllc的使命完成,公司解散,各个成员踏上独自研发之路。

asml加入euvllc后,享受到的研究成果大大加快了其euv的研发进度,2005年摩尔定律陷入停滞,极紫外光刻技术被认为是制程突破10n程工艺的关键,但由于euv光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限,光源功率要求极高,透镜和反射镜系统也极致精密,还需要真空环境,配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高,别说是对日本与荷兰,就算是科技全球第一的美国,举国之力独自突破这项世界最尖端的技术,也是痴人说梦。

由于技术难度极高,需要巨额的研发资金,尼康和佳能只得选择放弃,彻底沦为中低端光刻机厂商。

asml成为唯一的候选人!

asml以23%的股权得到英特尔、三星和台积电的53亿欧元的研发euv光刻机的资金,而这三家客户也因此获得优先供货权。

asml也成为美国大财团控股的荷兰高科技公司!

从1997年,英特尔和美国能源部牵头成立euvllc开始,到孙健重生前的2017年,asml才成功量产第一台euv光刻机,集中全球物理学、材料学和精密制造极限的技术成果,还用了整整20年的时间!

euv光刻机研制成功之难难于上青山不是一句调侃!

孙健预测再投入1亿美元,汤普森团队就是能研究成功euv,在euv光刻机这种人类技术最复杂的宏伟工程面前,gca即使耗费几十亿美元的研发经费,也不可能独自生产成功,要集中全球最顶尖的物理学、材料学和精密制造等科技成果,也只有美国才有这样的组织能力。

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